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加熱制冷循環(huán)器

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  • 高低溫恒溫循環(huán)槽

    高低溫恒溫循環(huán)槽

    高低溫恒溫循環(huán)槽實現(xiàn)高溫200℃,低溫-40℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

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  • 加熱制冷循環(huán)器(-20℃~200℃)

    加熱制冷循環(huán)器(-20℃~200℃)

    加熱制冷循環(huán)器(-20℃~200℃)為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

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  • 高低溫恒溫槽(-40℃~200℃)

    高低溫恒溫槽(-40℃~200℃)

    高低溫恒溫槽用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用,最低使用溫度-40℃,最高使用溫度200℃

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